IVAM Microtechnology Network
Stand A26
Als erstes europäisches Unternehmen bietet SONOSYS® Ultraschall-Reinigungssysteme im Frequenzbereich zwischen 400 kHz und 5 MHz an. SONOSYS® Megasonic Systeme ermöglichen eine sehr effiziente Abreinigung von Partikeln bis in den Nanobereich von Wafern, Masken, MEMS und LIGA. Unsere Produkte werden in den verschiedensten Märkten eingesetzt (z. B. Halbleiterindustrie, Lebensmittelindustrie, Optische Industrie, Solarzellen, Sonochemie). Produktspektrum: Transducerplatten, Tauchschwinger, Face-to-Face-Transducer, Single- und Doppel-Düsen, Vernebler und sehr kompakte Generatoren bis zu 2000 W.Effiziente Megasonic (=Megaschall) Reinigung von Mikro- und Nanostrukturen. Das ist unsere Stärke! In engen Partnerschaften mit Forschungsinstituten und unseren Kunden werden vorhandene Kräfte gebündelt und für eine bestmögliche Reinigungslösung umgesetzt, ganz nach dem Motto: »Gemeinsam NanoClean beherrschen«, dem Leitmotiv von SONOSYS®. Das Ergebnis sind die weltweit kompaktesten Megasonic Generatoren und Transducer in einem einzigartigen Design. SONOSYS® beherrscht wie kein anderes Unternehmen, die Herstellung hochfrequenter Ultraschallsysteme im Bereich 400 kHz bis 9 MHz. Hauptanwendungsfelder sind vor allem die Wafer Reinigung (Halbleiter), Mikrosystemtechnik/MEMS Reinigung, Ligatechnik und Optik
SONOSYS®-Systeme:
Vermietung von Megasonic Systemen für Versuche beim Anwender
NanoClean, wafer cleaning, megasonics, photomask cleaning
